炭疽病胁迫下的茶树叶片高光谱特征分析

王晓庆; 冉烈; 彭萍; 崔正龙; 《植物保护 》 2014 北大核心 CSCD

摘要：试验以茶树不同炭疽病受害程度的叶片及健康叶片为材料,室内测定其光谱反射率。结果表明,炭疽病危害后,茶树叶片的光谱值随发病程度的增加表现出有规律的变化,740~1 000nm波段的光谱反射率随病情加重呈现下降趋势;而1 370~2 500nm波段却表现出相反趋势。在742~974nm和1 374~2 500nm,炭疽病受害程度与光谱反射率呈极显著相关。对光谱一阶微分特征分析表明,在680~780nm范围内处理间变幅最大,有2个波段的一阶微分值与受害程度表现出极显著相关性,分别为715~763nm和776~778nm波段。建立的炭疽病严重度诊断模型,均达到极显著水平,其中利用植被指数(Rg-Rr)/(Rg+Rr)建立的模型精确度最高。

关键词： 茶树 炭疽病 受害程度 高光谱 诊断模型