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炭疽病胁迫下的茶树叶片高光谱特征分析

文献类型: 中文期刊

作者: 王晓庆 1 ; 冉烈 2 ; 彭萍 1 ; 崔正龙 1 ;

作者机构: 1.重庆市农业科学院茶叶研究所

2.重庆文理学院

关键词: 茶树;炭疽病;受害程度;高光谱;诊断模型

期刊名称: 植物保护

ISSN: 0529-1542

年卷期: 2014 年 06 期

页码: 13-17

收录情况: 北大核心 ; CSCD

摘要: 试验以茶树不同炭疽病受害程度的叶片及健康叶片为材料,室内测定其光谱反射率。结果表明,炭疽病危害后,茶树叶片的光谱值随发病程度的增加表现出有规律的变化,740~1 000nm波段的光谱反射率随病情加重呈现下降趋势;而1 370~2 500nm波段却表现出相反趋势。在742~974nm和1 374~2 500nm,炭疽病受害程度与光谱反射率呈极显著相关。对光谱一阶微分特征分析表明,在680~780nm范围内处理间变幅最大,有2个波段的一阶微分值与受害程度表现出极显著相关性,分别为715~763nm和776~778nm波段。建立的炭疽病严重度诊断模型,均达到极显著水平,其中利用植被指数(Rg-Rr)/(Rg+Rr)建立的模型精确度最高。

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